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微导纳米:ALD的薄膜台阶覆盖率能做到将近100%薄膜能很均匀地覆盖在深孔和复杂表面上是其他沉积技术难以达成的
文章出处:新闻中心|
阅读量:1|
时间:2024-07-12 11:44:43

  同花顺300033)金融研究中心07月04日讯,有投资者向微导纳米提问, 请问公司的ald设备在GAA环绕式栅极技术上的占比?是否很重要

  公司回答表示,尊敬的投资者您好。GAA工艺,又称环绕式栅极工艺,通过在晶体管的四个面周围布置栅极,提高了对通道的控制效率,有助于缩小工艺节点尺寸,是一种先进的半导体制造技术。ALD技术作为能应用在半导体集成电路领域的一种共性技术,具有薄膜均匀性好、高保形性、成膜质量高等诸多优点。ALD的薄膜台阶覆盖率能做到将近100%,薄膜能很均匀地覆盖在深孔和复杂表面上,是其他薄膜沉积技术难以达成的。ALD技术沉积出来的高质量的薄膜能够很好的满足复杂栅极结构中薄膜沉积的要求。感谢您的关注。

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